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氣體分析儀 RGM2-202

RGM係列分析儀適合在蝕刻設備、CVD設備的工藝管理（品質管理、提高效率）和終點監測。

所屬分類：

愛發科

氣體分析儀

CVD-ALD-刻蝕工藝

氣體分析儀

關鍵詞：

愛發科

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  • 產品特點和用途
  • 產品參數和曲線圖

  • RGM係列 CVD設備刻蝕工藝

    |特點

    1、可以在反應過程中長時間進行穩定的測量

    2、采用具有磁場的Claude離子源

    3、軟電離可防止在高靈敏度電離室因熱反應而產生的分解和吸附，同時氣體離解較少

    4、緊湊型流量控製閥

    5、處理室到離子源的距離很短，可以快速響應分辨率

    6、可以測量寬範圍的壓力10-6 to 13kPa（口徑可選）

    7、無需電腦也可以測量

    8、One Click機能（對每個人來說都很容易，不需要複雜的操作）

    9、連接傳感器單元時，最大可以進行120℃的高溫烘烤

    10、離子源，二次電子倍增管的預防性維護分析管加載了可追溯性（專利申請中）

    11、可進行氦氣檢漏，漏氣測試

    12、標準搭載軟件（Windows 8/10/11）

     

    |用途

     

    1、CVD/ALD/蝕刻設備

    2、監測工藝中的反應氣體

    3、蝕刻和清潔工藝的末端監測

    4、殘留氣體測量

    5、檢漏

  • |規格參數

     

     

    型式　 RGM2-202 RGM2-302
    質量數範圍 1-200 amu 1-300 amu
    靈感度 1×10-3 A/Pa (二次電子增倍管（SEM）)
    檢知分壓 1×10-10Pa
    抽樣壓力 13 KPa
    分辨率 M/∆M=1M(10% P.H.)
    氣體導入閥門 帶有孔徑的流路控製閥門
    離子源/燈絲 帶磁鐵的密封型離子源 / V字型燈絲  Ir / Y2O3(1本）
    軟件 Qulee QCS Ver.3.1以降（Windows 7/8/10）適用
    備注  

     

    |曲線圖

     

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